Schnelldetektionssystem für Wafer Surface Particles (PDS)

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Fastmicro Wafer Surface Particle Detection System (PDS) ist speziell für die direkte Messung von Oberfl?chenpartikel in Produkten aus verschiedenen Branchen entwickelt und wird haupts?chlich für die Wafer-, Film- und Mask-Detektion im Halbleiterbereich verwendet. Das System ist mit einem 4-12-Zoll-Sichtfeld-Scanbereich (FOV) ausgestattet und unterstützt die Oberfl?chendetektion von oben und unten. Die optische Konstruktion erm?glicht es, das Produkt w?hrend der Messung zu prüfen, ohne sich zu bewegen. Das System kann auf die Anforderungen unterschiedlicher Produktionsprozesse angepasst oder direkt in die Produktionslinie integriert werden.

Produktdetails

FastmicroSchnelldetektionssystem für Wafer Surface Particles (PDS)

FastmicroSchnelldetektionssystem für Wafer Surface Particles (PDS)Es wurde speziell für die direkte Messung von Oberflächenpartikelverschmutzungen in verschiedenen Industrieprodukten entwickelt und wird hauptsächlich für die Detektion von Wafer, Film und Masken im Bereich der Halbleiter eingesetzt. Das System ist mit einem 4-12-Zoll-Sichtfeld-Scanbereich (FOV) ausgestattet und unterstützt die Oberflächendetektion von oben und unten. Die optische Konstruktion ermöglicht es, das Produkt während der Messung zu prüfen, ohne sich zu bewegen. Das System kann auf die Anforderungen unterschiedlicher Produktionsprozesse angepasst oder direkt in die Produktionslinie integriert werden.

Konsistenzmessung im Produktionsprozess

Schnell:Großflächige Bildgebung in Sekunden

Quantifizierung:Validierung und Überwachung für Produktions- und Entwicklungsumgebungen

Einfache Bedienung:Bedienerfrei, automatisiert, sauber zu greifen

Genauigkeit:Hochauflösende Messungen (Anzahl, Position, Größe)

Konsistenz:Jede Messung ist objektiv und stabil

Hoher Durchfluss:Ergebnisse im Prozesszeitfenster erzielen

晶圆表面颗粒物快速检测系统（PDS)

FM-PDS: Direkte Erkennung von Oberflächenpartikel

Das System eignet sich für Wafer-Herstellungsprozesse, Verbindungshalbleiter der nächsten Generation und fortschrittliche Verpackungen.Für die Ermittlung von Oberflächenpartikelverschmutzung mit hohem Durchfluss.

Das System ist für Partikelgrößen größer als 0,1& Mikro; mDie Partikel haben eine hohe Empfindlichkeit und sindAuswahl für effektive Dienstleistungen.

Es kann manuell oder automatisch bedient werden undNiedrige Wartungskosten ersetzen herkömmliche Partikelprüfsysteme.

Für Halbleiterproduktionsanwendungen der nächsten Generation verfügt das PDS-System über die Eigenschaften:Scannen (optional);

Statisches Sichtfeldscannen (keine Bewegung des Produkts während der Bilderfassung erforderlich).

Multifunktionale modulare Plattform

Das System kann auf jeden Produktionszertifizierungsprozess angepasst oder in die Produktionslinie integriert werden. Ihre KonfigurationInklusive manueller oder automatischer Wafer-Greifer für mobile Geräte, Verpackungsöffnung zur Erkennung und ReinigungAusrüstung, Füllgeräte, Roboterarme, Prüfeinheiten und Reinigungsgeräte.

Das System kann auf die Bedürfnisse der Kunden angepasst und skaliert werden. Messmodule können auchIntegrationshersteller und Originalgerätehersteller (OEM) bieten Markierungsdienste an.

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