UV-Reinigungsgeräte

Die UV-Photolyse-Reinigungsanlage von WACKANG verwendet UV-UV-Strahlen mit hohem Ozon, um Sauerstoffmoleküle in der Luft abzubauen, um freien Sauerstoff zu erzeugen, und die Geschmacksentschöpfungseffizienz dieser Anlage kann 90% erreichen. Starke Anpassungsfähigkeit und niedrige Betriebskosten ermöglichen schädliche Emissionen.

Struktur der UV-Reinigungsanlage

Die Konstruktion der UV-Photolyse-Reinigungsanlage besteht aus einem Mikrowellengenerator, einem Ionenozongenerator, einem Kontrollkasten, einer mittleren Filterung, einem Titandioxid-Fotokatalysator und einem äußeren Gehäuse.

Arbeitsprinzip der UV-Reinigungsanlage

Die Verwendung von hohem Ozon UV-Strahlen bestrahlen organische Gase und Sauerstoffmoleküle in der Luft, zerbrechen die molekularen Bindungen von organischen Gasen und zerbrechen die Sauerstoffmoleküle in der Luft, um freien Sauerstoff zu erzeugen, nämlich aktiven Sauerstoff, UV + O2 → O - + O * (aktiver Sauerstoff) O + O2 → O3 (Ozon). Schadstoffmoleküle im freien Zustand binden sich mit Ozonoxidation zu schädlichen oder geringschädlichen Verbindungen mit kleinen Molekülen wie CO2, H2O usw. Dadurch wird die Wirkung des Gases gereinigt. Reinigungsfähigkeit bis zu 99%.

Arbeitsprinzip der UV-Reinigungsgeräte1

Reaktionsprozess:

1, UV + Polymolekulare Organische Substanz → Niedrigmolekulare Organische Substanz

UV + Luft (O2) → O3

Niedrigmolekulare organische Stoffe + O3 → CO2 + H2O + N2

Arbeitsprinzip der UV-Reinigungsanlage

Vorteile der UV-Reinigung

Technische Parameter der UV-Reinigungsanlage

Beschreibung: Die oben genannten Daten sind für unser Unternehmen gemäß den üblichen Verarbeitungsstandards festgelegt, unser Unternehmen wird die Größe aufgrund der Verbesserung des tatsächlichen Prozesses und der Abgaskonzentration anpassen, wenn der Kunde aufgrund der Einschränkungen des Standorts die Größe anpassen muss, kann unser Unternehmen je nach der Lage vor Ort separat konfiguriert werden, die tatsächliche Größe basiert auf dem Angebotsdokument und dem Kaufvertrag, die Installation der Ausrüstung wird bitte gemäß den Anweisungen verwendet.

Anwendungsbereich von UV-Reinigungsgeräten

Anwendungsarten von Abgasen für UV-Photolyse-Reinigungsgeräte:

Deodorisationsgeräte für: Aceton, Buton, Ethylessigat, VOC 、 Gerüche und Abgase wie Formaldehyd, Acetaldehyd, Essigsäure, Benzene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene, Ethylene

Hauptquellen der Abgase

Wasserstoffsulfid

Herstellung oder Verarbeitung von Rinderhautzellulose, Ölraffinerie, Alkohol, Petrochemie, Gas, Mülleinsatz, Kohlendioxid

Ethanole

Rinderhaut Zellstoff, Raffinerie, Gas, Pharma, Pestizide, synthetische Ester, synthetische Fasern, Gummi

Schwefelart

Rinderhaut Zellstoff, Ölraffinerie, Pestizide, Müllbehandlung, Abwasser

Ammoniak

Stickstoffdünger, Stickstoffsäure, Alkoholisierung, Stuhlbehandlung, Fleischverarbeitung

Amine

Wasserverarbeitung, Tierverarbeitung, Leder, Knochenkleber

Kategorien

Abfallentsorgung, Abwasserbehandlung, Alkoholisierung, Fleischfall, Schlachtung von Vieh

Nitro

Kraftstoffe, Sprengstoffe

Kohlenwasserstoffe

Raffinerie, Alkohol, Petrochemie, Elektrostein, Dünger, Verbrennungsmotorabgasse, Farben, Lösungsmittel, Tintendruck

Aldehyde

Raffinerie, Petrochemie, Medizin, Verbrennungsmotorabgase, Abfallbehandlung

Anwendungsfälle für UV-Reinigungsgeräte

Projekt: Hebei Druck Co., Ltd. Abgasverwaltung Engineering

Hauptbestandteile: Tinte und Abgase mit hoher Temperatur, die im Ofen ausgestrahlt werden;

Behandlungsluftvolumen: 32000m3/h;

Gerätekonfiguration: Gj-UV30000 Typ UV-Photolyse Reinigungsgerät ein; Plasmareiniger 1

Handhabungsnormen: Durchführung der zweiten Emissionsnormen der "Standard für die Emission von bösen Gerüchen" (GB14554-93) und der zweiten Emissionsnormen der "Grenzwerte für die Emission von Luftschadstoffen" (DB4427-2001) der lokalen Norm von Hebei.