Echtzeitüberwachung von Umweltstaubpartikeln

FastmicroEchtzeitüberwachung von Umweltstaubpartikeln

FastmicroEchtzeitüberwachung von UmweltstaubpartikelnEs wurde speziell für die Messung der Ablagerungsgeschwindigkeit von Partikeln im Reinraum entwickelt und unterstützt die Datenerfassung im Sekundenintervall, um Partikel über 0,5 um genau zu messen. In Kombination mit intuitiv benutzerfreundlichen Softwaresystemen ermöglicht es Kunden, einen Schritt von der einfachen Luftüberwachung zur Oberflächenreinigkeitsüberwachung zu erreichen und bietet wissenschaftliche Grundlagen für die Prozessoptimierung und kontinuierliche Reinigungsverbesserung.

Konsistenzmessung im Produktionsprozess

Schnell:Kontinuierliche Überwachung auf sekundärer Ebene

Quantifizierung:Validierung und Überwachung für Produktions- und Entwicklungsumgebungen

Einfach zu bedienen:Einfache Schulung des Bedieners

Genauigkeit:Hochauflösende Messungen (Anzahl, Zeitlinie, Position, Größe)

Konsistenz: Wiederholbare objektive Messungen

Hoher Durchsatz:Echtzeit-Analyse vor Ort

Überwachung der Partikelabsetzungsrate (DPRL)

FastmicroEchtzeitüberwachung von Umweltstaubpartikeln(PFS) mit kompakter ArbeitIndustrielle Konstruktion zur Überwachung von Partikeln nach ISO 14644-9 und ISO 14644-17Partikelabsetzungsgeschwindigkeit (DPRL). Das Gerät ermöglicht es Prozess-/Qualitätsingenieuren, in EchtzeitÜberwachen Sie den Abschlag von Partikeln in kritischen Bereichen der Reinraum-Umgebung.

Kontinuierliche Überwachung in Schlüsselregionen

Im Gegensatz zu herkömmlichen nur Überwachung von Luftsuspendierten Partikeln kann das System auf SchlüsselmittelnDie Kontrolle der Partikelverschmutzung und die Reinigungsprüfung der Oberfläche werden kontinuierlich überwacht.Submikrometer-Partikel schweben nicht immer in der Luft, sie können sich absetzenSchlüsseloberfläche, die die technische Sauberkeit und Produktqualität beeinflussen.

Das Instrument verwendet 2-Zoll-Wafer-Aufnahme von Staubpartikeln in der Umgebung und kann proDie kontinuierliche Überwachung der Partikelabsetzung auf der Wafer-Oberfläche erfolgt etwa alle 10 Sekunden.Die Messgröße beträgt ≥0,5 (NIST-zertifiziert) und wird genau quantifiziertAbsetzungsrate.Die Softwareoberfläche ist einfach und intuitiv und ermöglicht die Erstellung von Berichten mit einem Klick.

Fastmicro PFSEin hochpräzises Gerät zur Prüfung von Partikeln vor Ort, das den Ingenieuren hilft,Herausforderungen für saubere Prozesskontrolle.

Mit dem Scannelektroskop Phenom XL können SieEinfache und effiziente weitere Charakterisierung und Rückverfolgung von Partikeln.