Der SEMPREP SMART Ionenschleifmaschine ist mit einer hohen Energie und einer optionalen niedrigen Energie Argon-Ionenpistole ausgestattet. Dieses Gerät ist ideal für die Endbearbeitung und Reinigung von Scan-Elektronenmikroskop (SEM) und Elektronenrückstrahlungsdiffraktionsproben (EBSD). Die Ionenverarbeitung verbessert und reinigt mechanisch polierte SEM-Proben und bereitet schädigungsfreie Oberflächen für die EBSD-Analyse vor. Das Gerät eignet sich auch für die schnelle Schnittbearbeitung. Die Vorbereitung von hochpräzisen und qualitativ hochwertigen Proben für Sie kann zum Beispiel bei Halbleiterprüfungen oder Schnittprüfungen der Lithium-Ionen-Batteriediamembran hervorragende Ergebnisse erzielen.
SEMPREP SMARTIonenschleifmaschine
SEMPREP SMARTIonenschleifmaschineAusgestattet mit hoher Energie und optional niedriger Energie Argon-Ionen-Pistole. Dieses Gerät ist ideal für die Endbearbeitung und Reinigung von Scan-Elektronenmikroskop (SEM) und Elektronenrückstrahlungsdiffraktionsproben (EBSD). Die Ionenverarbeitung verbessert und reinigt mechanisch polierte SEM-Proben und bereitet schädigungsfreie Oberflächen für die EBSD-Analyse vor. Das Gerät eignet sich auch für die schnelle Schnittbearbeitung. Die Vorbereitung von hochpräzisen und qualitativ hochwertigen Proben für Sie kann zum Beispiel bei Halbleiterprüfungen oder Schnittprüfungen der Lithium-Ionen-Batteriediamembran hervorragende Ergebnisse erzielen.

Hauptmerkmale:
• Fortgeschrittenes Ionenpistolen-Design und Automatisierungsfunktionen
• Neue benutzerfreundliche Bediensoftware: Intelligente Unterstützung
• Genauere Nadelventile: ermöglicht eine feine Einstellung des Luftstroms
• Hohe Präzisionseinstellbarkeit: zur Feinstellung des Betriebs
• Langlebige Hochvakuumsensoren
Produkteigenschaften:
• Optionale Low Energy Gun (LEG)
• Optionales neues LN2-Kühlsystem
• Optionale Vakuumtransfereinrichtung (VTU) zur Probenaufnahme unter Vakuumbedingungen
• Unabhängiger Gegenstand-Probentesch: für eine präzise Probenpositionierung bei einer 90°-Bearbeitung
Technische Parameter:
Ionenpistolen:
Ultrahochenergetische Ionenpistole bis zu 16 keV
Probengröße
Schnittprobenständer (optional 30°- und 90°-Probenständer):
• 30° Probentasch: Maximale Größe 16,4 mm (Länge) x 16 mm (Breite) x 3,1 mm (dick)
• 90° Probentasch: Maximale Größe 18,6 mm (Länge) x 16 mm (Breite) x 6 mm (dick)
Flacher Probentisch für die Oberflächenbearbeitung (EBSD) mit drei verschiedenen Kopftypen
• Flachkopf: Max. Durchmesser 50mm x 4mm
• Standard: Maximaler Durchmesser 32mm x 15mm
• Hohltyp: max. Durchmesser 25mm x 23mm
Bewegung der Probe
• Neigungswinkel der Probe: 0° bis 30°, kontinuierlich je 0,1° einstellbar
• Drehwinkel der Probe: 360 Probenroutung mit variabler Geschwindigkeit, einstellbare Winkelgeschwindigkeit
• Probenbearbeitungswinkel (Schaukel): ±10° bis ±120°, kontinuierlich je 5° einstellbar
Probenkühlung (optional)
Flüssigstickstoffkühlung oder Peltierkühlung
Vakuumsystem
Ölfreie Membranpumpen und Molekularpumpen
Gasversorgungssystem
Argon-Arbeitsgas mit einer Reinheit von 99,999 % und einem hochpräzisen NadelventilstromSteuerung
Molekularpumpe
Die HiPace 80 Neo.
Bildgebungssysteme
5-Megapixel-CMOS-Kamera mit Messfunktionen im Bild
Computer-Steuerung
Einfach zu bedienende grafische Schnittstelle zur automatisierten Bedienung von Ionenpistolen und ProbenständenPositionkalibrierung
Bearbeitung mit Argon-Ionenstrahlen
